Характеристики плазмы
Высокая температура плазмы может обеспечить рабочую среду с высокой энтальпией, производить материалы, которые не могут быть получены обычными методами, и обладает преимуществами контролируемой атмосферы, относительно простого оборудования и значительного сокращения технологического процесса, поэтому плазменная технология значительно развилась. В 1879 г. У. Крукс указал, что ионизированный газ в разрядной трубке является четвертым состоянием вещества, отличным от газа, жидкости и твердого вещества. В 1928 году И. Ленгмюр назвал это плазмой. Наиболее распространенной плазмой являются люминесцентные газы, такие как дуги, неоновые и флуоресцентные лампы, а также молнии и сияние. С развитием науки и техники люди смогли искусственно генерировать плазму различными способами, тем самым формируя широко используемую плазменную технологию. Вообще говоря, плазма с температурой около 108 К называется высокотемпературной плазмой и используется только в экспериментах с контролируемым термоядерным синтезом; Плазмы с промышленным применением - это те, чья температура составляет от 2 × 103 до 5 × 104 К и может длиться несколько минут. Низкотемпературная плазма длительностью в несколько минут или даже десятков часов в основном получается методом газового разряда и методом горения. Газовый разряд делится на дуговой разряд, высокочастотный индукционный разряд и разряд низкого давления. Плазма, произведенная первыми двумя, называется тепловой плазмой, которая в основном используется в качестве высокотемпературного источника тепла; произведенная последним плазма называется холодной плазмой, которая обладает особыми физическими свойствами, которые могут быть использованы в промышленности. Однако из-за высоковольтного разряда при обработке органических отходов необходимо предотвратить взрывы, которые легко воспламеняются.